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納米壓印系統(tǒng)-光刻機(jī) 介紹了一個(gè)臺(tái)式、獨(dú)立的納米壓印平臺(tái)。該平臺(tái)提供了一個(gè)帶有微型定位夾具的機(jī)械平臺(tái)，用于安裝納米壓印室、紫外線固化

硅穿孔工藝設(shè)備-光刻機(jī) 晶圓和晶圓之間制作垂直導(dǎo)通，實(shí)現(xiàn)芯片之間互連的新技術(shù)。能夠使芯片在三維方向堆疊的密度大，芯片之間的互連線短，外形尺寸小，并且大大改善芯片速度和低功耗的性能，使目前電子封裝技術(shù)中引人注目的新技術(shù)。

狹縫擠壓型涂布儀-勻膠機(jī) 狹縫擠壓型涂布儀夾縫式擠壓型涂布儀（Slot Die Coater）可以用于可復(fù)制重復(fù)性測(cè)試。歸功于桌面小型化的設(shè)計(jì)。它也可以大幅降低材料損耗?？蛻敉ㄟ^(guò)快速的多樣化測(cè)試來(lái)獲得更多客觀結(jié)果。

無(wú)掩膜曝光機(jī)-光刻機(jī) 美國(guó)IMP（Intelligent Micro Patterning,LLC）公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和多項(xiàng)無(wú)掩模曝光技術(shù)，已成為無(wú)掩模紫外光刻領(lǐng)域的。國(guó)內(nèi)參考用戶較多！

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顯影機(jī)-勻膠機(jī) 顯影機(jī) /濕法刻蝕機(jī)德國(guó)品質(zhì)（配有防污染內(nèi)襯，標(biāo)配兩個(gè)大小吸盤(pán)，性能優(yōu)于美國(guó)同類品牌） 高精度，高可靠性，耐腐蝕，來(lái)源德國(guó)，多程序控制。

光刻機(jī)/紫外曝光機(jī) 該公司是目前世界上早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術(shù)、精妙的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。

勻膠機(jī)其工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同, 也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。